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ポップカルチャーを愛し続けるための法律入門 貸出中

寺内 康介／著 -- ウェッジ -- 2026.3 -- 021.2

所蔵

所蔵は 3 件です。現在の予約件数は 4 件です。

所蔵館 所蔵場所 請求記号 資料コード 資料区分 帯出区分 状態
博多（山王） 博多・新着 /021/ﾎﾟ/ 7501578293 一般図書 帯出可 貸出中 iLisvirtual
早良（藤崎） 早良・新着 /021/ﾎﾟ/ 7301743659 一般図書 帯出可 貸出中 iLisvirtual
早良南（四箇田） 早南・新着 /021/ﾎﾟ/ 7860748578 一般図書 帯出可 貸出中 iLisvirtual

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タイトル ポップカルチャーを愛し続けるための法律入門
副書名 どこから盗作?どこから中傷?
著者 寺内 康介 ／著, KAI-YOU ／著  
出版者 ウェッジ
出版年 2026.3
ページ数 325p
大きさ 19cm
一般件名 著作権 , コンテンツビジネス
NDC分類(9版) 021.2
内容紹介 生成AI、切り抜き職人、サンプリング…。これって違法かも? 創作活動や日々の楽しみに勤しんでいる、あるいはポップカルチャーが好きな人たちに向けて、法律の知識をわかりやすく解説する。ウェブ連載に加筆修正。
ISBN 4-86310-309-2
ISBN13桁 978-4-86310-309-2

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